CVD系統-安徽貝意克設備技術有限公司

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CVD系統

二維材料制備碳納米管

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自動進料回轉CVD系統

更新時間：2020-03-25

型號：

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產品簡介： 1.該設備爐管可360度旋轉，管內壁有石英擋片幫助粉料翻轉有助于燒結得更均勻； 2.可左右大角度傾斜，方便出放料，傾斜角度在0~35°之間。 3、廣泛應用于電池正負極材料，無強酸堿性粉體材料，顆粒狀物料。 4、可在真空下或氣氛保護下進行燒制。
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BTF-1200C-II-PECVDCVD系統

更新時間：2021-10-22

型號：BTF-1200C-II-PECVD

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CVD系統是借助于輝光放電等方法產生等離子體，輝光放電等離子體中：電子密度高109-1012cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍，使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應，從而實現薄膜材料生長的一種新的制備技術。通過反應氣態放電，有效地利用了非平衡等離子體的反應特征，從根本上改變了反應體系的能量供給方式,低溫熱等離子體化學氣相沉積法具有氣相法的所有優點，工藝流程簡單。
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BTF-1200C-HV高真空自動循環設備

更新時間：2021-09-28

型號：BTF-1200C-HV

瀏覽量：768

BTF-1200C-HV高真空自動循環設備內外雙熱電偶控制，內熱電偶制動，使用者可以設定設備循環溫度點，可根據內熱電偶測得的溫度制動，推動爐管進出加熱腔體，整個實驗過程可自動控制無需人工干涉。
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碳納米管

更新時間：2021-10-14

型號：

瀏覽量：868

流化床—粉體碳納米管生長設備通過流量計和靜態混氣室把氣體均勻混拌，通過上通氣，氣體通過雙層管（夾層管預熱氣體，內腔體生長碳納米管）確保通入的氣體進入生長腔體內溫度一直，通過多空陶瓷網的結構設計，從而解決均勻進氣的問題。使的生長腔體熱場流場穩定，確保得到高質量重復性好的碳納米管。
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復合氧化物氫分離膜制備用CVD設備

更新時間：2021-09-27

型號：

瀏覽量：660

復合氧化物氫分離膜制備用CVD設備，可以實現在多孔氧化鋁陶瓷管和陶瓷片上化學沉積上氧化物（SiO2、Al2O3、TiO2、ZrO2）和復合氧化物（Al2O3-SiO2、SiO2-TiO2、SiO2- ZrO2）氫分離膜。
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BTF-1200C-II-SL-210雙爐膛滑動CVD控制系統

更新時間：2021-09-27

型號：BTF-1200C-II-SL-210

瀏覽量：636

雙爐膛滑動CVD控制系統操作時可將實驗需要的恒定高溫直接推到樣品處，使樣品能得到一個快速的升溫速度，同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處，使樣品直接暴露在室溫環境下，得到快速的降溫速率。
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BTF-1200C-II-R-CVD連續進出料回轉CVD生長設備

更新時間：2021-09-27

型號：BTF-1200C-II-R-CVD

瀏覽量：652

連續進出料回轉CVD生長設備爐管可360°旋轉，有助于粉料的燒結更均勻，可大角度傾斜，方便進出料，傾斜角度在0-35°之間。
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BTF-1200C-II-SL大三溫區滑軌CVD系統（低真空、高真空環境）

更新時間：2021-09-27

型號：BTF-1200C-II-SL

瀏覽量：575

BTF-1200C-III-SL-4ZL大三溫區滑軌CVD系統（低真空、高真空環境）控溫方式:模糊PID控制和自整定調節，智能化30段可編程控制，具有超溫和斷偶報警功能.
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